磨料自主生产
PCD微粉原料自产，以爆炸法合成，其自锐性好，耐磨性高，产能和产量自主可控。
定制化配方
可结合客户需求，定制特殊配方，可保证满足客户的研磨抛光需求。
速率稳定，抛光效果佳
特殊配方，分散性好，去除率高，划痕少，抛光表面一致性好。
定制化配方
可结合客户需求，定制特殊配方，可保证满足客户的研磨抛光需求。
速率稳定
特殊配方，分散性好，相比普通磨料，去除率高。
磨料结构特殊
磨料表面粗糙，有大量细小切削刃。
定制化配方
可结合客户需求，定制特殊配方，可保证满足客户的研磨抛光需求。
速率稳定
研磨过程磨料与工件间有大量接触点，可有效提高研磨效率。
抛光效果佳
特殊配方，分散性好，划痕少，抛光表面一致性好。
磨料结构特殊
磨料粒度分布较窄，微粉颗粒细小；特殊配方，分散性、悬浮性好，抛光基本无划痕，抛光表面一致性好。
加工精度高
优异的超精细抛光效果，可使工件表面粗糙度达到0.2nm以下。
分散性好
科学的配方，磨料粒度分布均匀，生产工艺特殊，能保证较好的分散效果。
良好的抛光效果
抛光对象表面平整光滑，无明显划伤。
精密的抛光质量
均匀的球形SiO2 粒子，能达到较好的Ra和TTV效果。
去除率高
在CMP的化学机械抛光作用下化学作用稳定。
寿命长
抛光液可循环使用多次且抛光性能稳定。
抛光表面质量好
磨料分散均匀，抛光表面缺陷少。
抛光速率高
微粉形貌特殊，兼备化学抛光作用。
独特设计的配方
磨料分散性好，不易沉淀，可有效提升移除率，增加循环使用次数，研磨时可有效降温及润滑。
研磨效果佳
降低破片率，获得更好的TTV。
提高研磨良率
纯度高，杂质含量少，辅助粗磨或者细磨使研磨端面更加细腻。
产品稳定性好
产品储存温度范围广，产品性能稳定。
产品环保
产品无毒，无害，易处理。
易于下蜡和清洁
所用原料溶剂溶解性好，易于去除和清洗。
上蜡后工件TTV良好
产品的熔融粘度低，流动性好。
