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研磨液与研磨膏

半导体抛光液

GRISH对化合物半导体有相应的抛光工艺和耗材,包括SiC(碳化硅)、AlN(氮化铝)、GaN(氮化镓)、GaAs(砷化镓)、InP(磷化铟)等。
应用领域:
半导体
  • 快速安全的物流

  • 免费获取样品

深入了解半导体抛光液

抛光表面质量好

磨料分散均匀,抛光表面缺陷少。

抛光速率高

微粉形貌特殊,兼备化学抛光作用。

产品参数

  • 基本参数
    常见规格的参数 氧化铝 测试方法
    粒度(nm) 200-500 激光粒度仪
    颗粒形貌 类球状 SEM
    pH值 9-13 pH计
    粘度(cst) <20 粘度计
    浓度(%) 10-30% ---
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  • 氧化铈抛光液

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